Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/8519
Title: Исследование процессов плазменного проявления и удаления экспонированных лазером фоточувствительных материалов для разработки и освоения новой передовой технологии – вакуумной фотолитографии глубокого субмикрона: отчет о НИР (заключ.)
Authors: Баранов, И. Л.
Котов, Д. А.
Ясюнас, А. А.
Комар, О. М.
Корзун, К. А.
Keywords: отчеты о НИР;силилирование;глубокий субмикрон;фоторезистивная маска;фоторезист;плазмохимическое травление
Issue Date: 2013
Publisher: БГУИР
Citation: Исследование процессов плазменного проявления и удаления экспонированных лазером фоточувствительных материалов для разработки и освоения новой передовой технологии – вакуумной фотолитографии глубокого субмикрона (заключительный) : отчет о НИР / БГУИР; научный руководитель И.Л. Баранов ; отв. исполнитель Д.А. Котов. – Минск, 2013. – 41 с. - № ГР 201138728
Series/Report no.: ГБЦ 11-3126;
Abstract: Предложено и реализовано использование в качестве силилирующего агента гексаметилдисилозана (ГМДС). При обработке ГМДС OH - группы замещаются на группы О-Si(CH3)3 и поверхность становится гидрофобной, обеспечивая очень хорошую адгезию фоторезиста. В позитивных фоторезистах на основе нафтохинондиазида и новолачных смол после экспонирования и обработки в порах силилирующего агента образуется кремнийсодержащий полимерный слой. С увеличением времени обработки фоторезиста в парах ГМДС концентрация кремнийсодержащих групп возрастает, что подтверждается спектрами пропускания данных образцов.
Gov't Doc #: № ГР 201138728
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/8519
Appears in Collections:Отчеты о НИР 2013

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
№ ГР 201138728 (11-3126)_Рук_НИР_Баранов.pdf
  Restricted Access
2.28 MBAdobe PDFView/Open Request a copy
Show full item record


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.