Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/9221
Title: Анализ физических причин необратимых отказов полупроводниковых структур при воздействии ЭМИ
Authors: Бужинский, А. Д.
Keywords: материалы конференций;полупроводниковые структуры;тепловые механизмы;ЭМИ
Issue Date: 2013
Publisher: БГУИР
Citation: Бужинский, А. Д. Анализ физических причин необратимых отказов полупроводниковых структур при воздействии ЭМИ / А. Д. Бужинский // Моделирование, компьютерное проектирование и технология производства электронных средств : сборник материалов 49-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов, Минск, 6–10 мая 2013 года / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: Боднарь И. В. [и др.]. – Минск, 2013. – С. 226–228.
Abstract: Анализ физических причин необратимых отказов полупроводниковых структур при воздействии ЭМИ позволяет сделать вывод о весьма сложном процессе их деградации, в котором преобладающее влияние оказывает тепловой меха- низм отказов. Для p-n-переходов этапы этого процесса можно кратко записать в виде: ЭМИ – наведённые помехи – изме- нение протекающего тока – электрический (лавинный) пробой – тепловой пробой – выгорание. Тепловому пробою обычно предшествует электрический пробой, но для широких переходов тепловой пробой может наступить, минуя электрический.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/9221
Appears in Collections:Моделирование, компьютерное проектирование и технология производства электронных систем : материалы 49-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2013)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Анализ физических причин необратимых отказов.PDF502.03 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.