Skip navigation
Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/47255
Название: Разрядные характеристики магнетронной распылительной системы при реактивном магнетронном распылении металлической ванадиевой мишени на постоянном и импульсном токе
Другие названия: Discharge characteristics of a magnetron sputtering system under reactive magnetron sputtering of a metal vanadium target at direct and pulsed current
Авторы: Нестерчик, Р. И.
Ключевые слова: материалы конференций;магнетронные распылительные системы;реактивное магнетронное распыление;импульсное питание;magnetron sputtering systems;reactive magnetron sputtering;deposition rate
Дата публикации: 2022
Издательство: БГУИР
Описание: Нестерчик, Р. И. Разрядные характеристики магнетронной распылительной системы при реактивном магнетронном распылении металлической ванадиевой мишени на постоянном и импульсном токе / Р. И. Нестерчик // Электронные системы и технологии [Электронный ресурс] : сборник материалов 58-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 18-22 апреля 2022 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: Д. В. Лихаческий [и др.]. – Минск, 2022. – С. 466–468. – Режим доступа : https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/46926.
Аннотация: В статье рассматривается влияние состава газовой среды на характеристики разряда магнетрона при высоковакуумном реактивном магнетронном распылении. Представленные зависимости скорости нанесения пленок оксида ванадия от процентного содержания кислорода в смеси газов аргон/кислород для различных режимов при распыление на постоянном токе и при импульсном распылении. The article considers the influence of the composition of the gaseous medium on the characteristics of the magnetron discharge during high-vacuum reactive magnetron sputtering. The presented dependences of the deposition rate of vanadium oxide films on the percentage of oxygen in the argon/oxygen gas mixture for different modes during DC and pulsed sputtering.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/47255
Располагается в коллекциях:Электронные системы и технологии : материалы 58-й конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2022)

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
Nesterchk_Razryadnyye.pdf245.03 kBAdobe PDFОткрыть
Показать полное описание Просмотр статистики Google Scholar

Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.