https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/47293| Title: | Анализ технологии плазменной обработки полупроводниковых структур |
| Other Titles: | Analysis of the plasma processing technology of semiconductor structures |
| Authors: | Жаворонок, И. А. Тихон, О. И. |
| Keywords: | материалы конференций;плазменное травление;сверхвысокочастотные плазмы;сверхвысокочастотные магнетроны;plasma etching;microwave plasma;microwave magnetron |
| Issue Date: | 2022 |
| Publisher: | БГУИР |
| Citation: | Жаворонок, И. А. Анализ технологии плазменной обработки полупроводниковых структур / И. А. Жаворонок, О. И. Тихон // Электронные системы и технологии [Электронный ресурс] : сборник материалов 58-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 18-22 апреля 2022 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: Д. В. Лихаческий [и др.]. – Минск, 2022. – С. 403–405. – Режим доступа : https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/46926. |
| Abstract: | Проведен анализ разновидностей сухого травления, в частности такого вида сухого травления как ионно-плазменная обработка. Описано влияние на пластину и ее поверхность данного вида травления. An analysis of the varieties of dry etching, in particular, such a type of dry etching as ion-plasma processing, has been carried out. The effect of this type of etching on the wafer and its surface is described. |
| URI: | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/47293 |
| Appears in Collections: | Электронные системы и технологии : материалы 58-й конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2022) |
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| Zhavoronok_Analiz.pdf | 215.54 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.