Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/5424
Title: Формирование субмикронного рельефа тонких пленок обратной литографией с использованием металлических и оксидных масок
Other Titles: Producing of thin film submicron patterns by lift-off lithography using metal and oxide masks
Authors: Прудник, А. М.
Keywords: авторефераты диссертаций;обратная литография;обратные маски;субмикронные размеры;lift-off lithography;lift-off masks;submicron dimensions
Issue Date: 2002
Publisher: БГУИР
Citation: Прудник А. М. Формирование субмикронного рельефа тонких пленок обратной литографией с использованием металлических и оксидных масок: автореф. дисс. ... кандидата технических наук : 05.27.01 / А. М. Прудник; науч. рук. Л. М. Лыньков. - Мн.: БГУИР, 2002. - 21 с.
Abstract: Целью работы является разработка конструкторско-технологических методов и средств обратной литографии с использованием тонких маскирующих пленок металлов и оксидов на их основе. The aim of the work is to research influence of low-temperature and high-temperature treatment conditions on thin films of different metals and their oxides on local modification, electrochemical and thermal oxidation for using them as masks for lift-off lithography to produce patterns of submicron dimensions
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/5424
Appears in Collections:05.27.01 Твердотельная электроника, радиоэлектронные компоненты, микро и наноэлектроника, приборы на квантовых эффектах

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Прудник.pdf1.22 MBAdobe PDFView/Open
Show full item record


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.