Skip navigation

Browsing by Subject реактивное магнетронное распыление

Jump to: 0-9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Y Z
А Б В Г Д Е Ж З И Й К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Ц Ч Ш Щ Ъ Ы Ь Э Ю Я
 
Showing results 1 to 14 of 14
Issue DateTitleAuthor(s)
2022Болометрические характеристики пленок оксида ванадия при легировании вольфрамомТо, К. Т.
2022Влияние временных характеристик импульсного питания на дугообразование и стабильность процесса при реактивном магнетронном распыленииНестерчик, Р. И.
2018Влияние отжига на структуру и диэлектрические свойства пленок оксида гафнияГолосов, Д. А.; Мельников, С. Н.; Завадский, С. М.; Вилья, Н.; Грехов, М. М.; Колос, В. В.
2020Влияние степени легирования алюминием на механические и триботехнические характеристики пленок нитрида титана-алюминияГолосов, Д. А.; Окс, Е. М.; Бурдовицин, В. А.; Нгуен, Т. Д.; Мельников, С. Н.; Завадский, С. М.; Поболь, И. Л.; Кананович, Н. А.; Тиан, К.; Лам, Н. Н.
2019Диэлектрические свойства пленок оксида тантала, нанесенных методом реактивного магнетронного распыленияВилья, Н.; Голосов, Д. А.; Нгуен, Т. Д.
2023Модель процесса реактивного магнетронного распыления двухкомпонентной составной мишениДоан, Х. Т.; Голосов, Д. А.; Джанг, Дж.; Завадский, С. М.; Мельников, С. Н.; Нгуен, Т. Д.
2022Особенности реактивного магнетронного нанесения пленок оксида тантала при различных способах подачи газа в камеруДоан, Х. Т.; Голосов, Д. А.; Бурдовицин, В. А.; Завадский, С. М.; Мельников, С. Н.
2022Разрядные характеристики магнетронной распылительной системы при реактивном магнетронном распылении металлической ванадиевой мишени на постоянном и импульсном токеНестерчик, Р. И.
2021Структурно-фазовые характеристики пленок оксида ванадияНгуен, Т. Д.; Занько, А. И.; Голосов, Д. А.; Завадский, С. М.; Мельников, С. Н.; Колос, В. В.; То, Т. К.
2016Формирование пленок нитрида титана методом реактивного магнетронного распыления при пониженном давленииДостанко, А. П.; Голосов, Д. А.; Завадский, С. М.; Мельников, С. Н.; Окоджи, Д. Э.; Котинго, Д. Д.; Рубан, Г. М.
2017Формирование пленок оксида гафния методом реактивного магнетронного распыленияГолосов, Д. А.; Завадский, С. М.; Мельников, С. Н.; Вилья, Н.
2020Формирование пленок оксида тантала на подложках диаметром 200 миллиметровВилья, Н.; Голосов, Д. А.; Мельников, С. Н.; Нгуен, Т. Д.; Голосов, А. Д.
2019Формирование пленок оксида титана методом реактивного магнетронного распыленияВилья, Н.; Голосов, Д. А.; Нгуен, Т. Д.
2020Электрофизические свойства пленок оксида ванадия, нанесенных методом реактивного магнетронного распыленияНгуен, Т. Д.; Занько, А. И.; Голосов, Д. А.; Завадский, С. М.; Мельников, С. Н.; Колос, В. В.